O3-Annealing Effect on the Etching Resilience of a TiO2/Al2O3 filter Prepared by Atomic Layer Deposition


Por: Vazquez J.L., López J., Bohórquez C., Lizarraga E., Blanco E., Can-Uc B., Romo O., Nedev N., Farías M.H., Tiznado H.

Publicada: 1 ene 2023
Resumen:
This research investigates the improvements of ozone (O3) annealing on the optical and etching characteristics of TiO2/Al2O3 multilayer band-pass filters designed for potential optoelectronic applications. The band-pass filters were fabricated using atomic layer deposition (ALD), and their performance was systematically analyzed after the addition of O3 annealing at moderate temperatures (up to 300 °C). Results reveal that O3 annealing improves the optical transmittance of the multilayers by approximately 40% without significant spectral changes (~6 nm). The observed enhancement in the transmittance is attributed to the improved stoichiometry of TiO2. By filling in the oxygen vacancies created during the fabrication process, it reduces its extinction coefficient. Furthermore, the O3 annealing enhances the stability of TiO2 against wet etching, improving the uniformity of etched surfaces. Etching on the ozone-annealed multilayer was up to 8 times more homogeneous, as observed in the roughness. The relatively short duration of the O3 annealing process, approximately 1.6 h, makes it a cost-effective alternative compared to using ozone in the ALD process, which can last several hours for thick optical coatings. © 2023 American Chemical Society.

Filiaciones:
Vazquez J.L.:
 Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada-CICESE, Ensenada, 22860, Mexico

 Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM), Centro de Nanociencias y Nanotecnología (CNyN), Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n, Baja California, Ensenada, 04510, Mexico

López J.:
 CONAHCYT - Centro de Nanociencias y Nanotecnología, UNAM, Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n., Ensenada, 04510, Mexico

Bohórquez C.:
 Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada-CICESE, Ensenada, 22860, Mexico

 Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM), Centro de Nanociencias y Nanotecnología (CNyN), Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n, Baja California, Ensenada, 04510, Mexico

Lizarraga E.:
 Universidad Autónoma de Baja California, Unidad Valle de las Palmas, Blvd. Universitario 1000, Baja California, Tijuana, 22260, Mexico

Blanco E.:
 Departamento de Física de la Materia Condensada, Universidad de Cádiz, Puerto Real, E11519, Spain

Can-Uc B.:
 Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM), Centro de Nanociencias y Nanotecnología (CNyN), Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n, Baja California, Ensenada, 04510, Mexico

Romo O.:
 Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada-CICESE, Ensenada, 22860, Mexico

 Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM), Centro de Nanociencias y Nanotecnología (CNyN), Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n, Baja California, Ensenada, 04510, Mexico

Nedev N.:
 Universidad Autónoma de Baja California, Instituto de Ingeniería, Blvd. Benito Juárez s/n, Baja California, Mexicali, 21280, Mexico

Farías M.H.:
 Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM), Centro de Nanociencias y Nanotecnología (CNyN), Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n, Baja California, Ensenada, 04510, Mexico

Tiznado H.:
 Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM), Centro de Nanociencias y Nanotecnología (CNyN), Km 107 Carretera Tijuana-Ensenada s/n, Baja California, Ensenada, 04510, Mexico
ISSN: 19448244
Editorial
American Chemical Society, 1155 16TH ST, NW, WASHINGTON, DC 20036 USA, Estados Unidos America
Tipo de documento: Article
Volumen: 15 Número: 34
Páginas: 40942-40953
WOS Id: 001049530000001
ID de PubMed: 37590996

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